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无氰电镀金工艺:从槽液配制到镀层质量控制

无氰电镀金工艺:从槽液配制到镀层质量控制

无氰电镀金替代氰化镀金是行业趋势,但工艺参数与氰化体系差异较大。本文从槽液配制、工艺参数、质量控制三个维度详解无氰电镀金工艺。


一、槽液配方(天跃CT-288体系)

组分 浓度 作用
金盐 5-8g/L 金源
络合剂 适量 稳定金离子
导电盐 适量 提高导电性
pH调节剂 pH 8-9
光亮剂 微量 改善外观

二、工艺参数

参数 范围 最佳值
温度 45-55℃ 50℃
电流密度 0.1-0.5A/dm2 0.3A/dm2
pH 8-9 8.5
搅拌 阴极移动
过滤 连续过滤

三、镀层质量

指标 CT-288 CT-361
纯度 99.98% 99.98%
硬度 70-100Hv 200-300Hv
外观 光亮 光亮
孔隙率

四、常见问题与解决

问题 原因 解决
镀层发暗 温度低/电流低 提高温度/电流
镀层粗糙 金盐浓度低 补加金盐
结合力差 前处理不当 加强除油/活化
镀速慢 导电盐不足 补加导电盐

五、与氰化体系对比

项目 无氰体系 氰化体系
安全性 低(剧毒)
废水处理 简单 复杂
镀层质量 相当 相当
成本 略高 略低

免责声明:本文工艺参数基于天跃CT-288体系。不同产品参数可能有差异。内容仅供参考。

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